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電極磁控濺射設備是一種基于物理氣相沉積（PVD）技術的高端鍍膜設備，其核心原理是利用磁場與電場的交互作用，在靶材表面形成高密度等離子體，通過荷能粒子（如氬離子）轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射并沉積在基片表面，形成均勻、致密、高性能的薄膜。
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